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Development of Interference Lithography Capability Using a Helium Cadmium Ultraviolet Multimode Laser for the Fabrication of Sub-Micron-Structured Opt

Langue AnglaisAnglais
Livre Livre de poche
Livre Development of Interference Lithography Capability Using a Helium Cadmium Ultraviolet Multimode Laser for the Fabrication of Sub-Micron-Structured Opt Stanley D Crozier
Code Libristo: 08143237
Éditeurs Biblioscholar, octobre 2012
The goal of this work is to develop unique holograms on a semiconductor-metal thin films to characte... Description détaillée
? points 157 b
66.57 € včetně DPH
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The goal of this work is to develop unique holograms on a semiconductor-metal thin films to characterize as potential metamaterials. This is achievable by developing a fabrication recipe to include exposure methods, exposure dosages, and material development. This study developed an interference lithography capability at AFIT for the first time with period resolution below 230nm. It also identified initial acceptable photoresist materials and exposure dosages, and a path to follow to optimize this process.

À propos du livre

Nom complet Development of Interference Lithography Capability Using a Helium Cadmium Ultraviolet Multimode Laser for the Fabrication of Sub-Micron-Structured Opt
Auteur Stanley D Crozier
Langue Anglais
Reliure Livre - Livre de poche
Date de parution 2012
Nombre de pages 96
EAN 9781249829553
ISBN 9781249829553
Code Libristo 08143237
Éditeurs Biblioscholar
Poids 186
Dimensions 189 x 246 x 5

Catégories

Société et sciences sociales > Education
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